SÃœSS MicroTecs Japan Seminar adressiert 3D Integration und Next Generation Lithography
(DGAP-Media / 05.12.2012 / 10:41)
PRESSEMITTEILUNG
SÜSS MicroTecs Japan Seminar adressiert 3D Integration und Next Generation
Lithography
Garching, 5. Dezember 2012 – Die SÜSS MicroTec AG, führender Hersteller von
Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte
Märkte, hat am 4. Dezember 2012 im Hyatt Regency Tokio das –SÜSS MicroTec
Japan Seminar 2012– mit großem Erfolg durchgeführt. Auf den zwei parallel
stattfindenden Ve
